铝钛合金抛光液:
纳米级抛光液主要由高纯度的胶态氧化硅微粒所组成,可避免加工元件产生刮伤的现象,特别适合用于石英、光学晶体、红外晶体、金属、陶瓷等的抛光。
定制化配方:抛光液产品根据客户特殊需求特制生产单价另计。
我司抛光液去除率可达到2-6um/小时,具体根据客户实际工艺和技术而确定。
抛光后表面粗糙度Ra<0.2nm
产品详情:
规格型号 | 平均粒径(nm) | Sio2含量(%) | PH值 | 比重(20°C)g/cm³ |
50 | 40 | 39-41 | 10-11 | 1.28-1.30 |
80 | 72 | 39-41 | 10-11 | 1.28-1.30 |
100 | 80-120 | 39-41 | 10-11 | 1.28-1.30 |
130 | 120-130 | 39-41 | 10-11 | 1.28-1.30 |
应用范围:
1、半导体、碳化硅、硅片、锗、砷化镓、磷化铟、氮化镓等半导体材料研磨抛光;
2、红外晶体、硒化锌晶体研磨抛光、硒化锌研磨抛光,激光晶体研磨抛光、光学晶体研磨抛光、研磨速率高,划伤小,表面光洁度高;
3、蓝宝石衬底研磨抛光、LED衬底研磨抛光、蓝宝石窗口片研磨抛光、手机摄像头研磨抛光、手表表盘研磨抛光,手机玻璃面板研磨抛光;
4、玻璃抛光、金属研磨、铝合金研磨、不锈钢研磨、金刚石工具、模具钢研磨抛光、陶瓷等研磨及抛光。
常规包装:25KG/桶;
特殊包装:25KG/箱、5KG/桶、500ML/瓶、1吨/罐;
铕存方式:存放温度为5℃-35℃,常规条件25℃,避免阳光照射
保质期限:弱碱性抛光液保质期为一年
市释比例:建议稀释比例1:1-1:5.需用去离子水或蒸馏水,原液使用效果更佳。

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