半导体专用粗磨液
产品详情:
特殊配方分散性好,相比普通磨料,能够实现去除率高且成本较低;具有良好的润滑性能;具有较好清洗性能,避免了研磨液在工件表面的残留;严格的质量控制,确保产品质量的一致性和稳定性。
定制化配方:可根据客户需求进行定制。
可供规格:
单 位 | 粒 度 | 介 质 | ||||
微米(um) | 0.5 | 0.8 | 1 | 3 | 5 | 水性/中性/油性 |
6 | 8 | 10 | 18 | 28 | ||
纳米(Nm) | 50 | 80 | 120 | 150 | 200 | 水性/中性/油性 |
220 | 250 | 300 | 400 | 450 | ||
应用领域:
半导体、碳化硅、硅片、锗、砷化镓、磷化铟、氮化镓等半导体材料研磨抛光;
注意事项:
1、请将液体摇晃均匀或用超声波超20分钟后使用效果更佳;
2、储存方式:密封保存阴凉干燥处,避免阳光照射及防止结冰,沉淀属于正常现象;
3、产品保质期:6个月;
4、可根据客户工艺要求进行定制,提供不同粒度、介质及技术支持;
5、包装规格:500ml/瓶,5L/桶(可根据客户需求)。

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