锗片研磨抛光液
产品详情:
金刚石多晶研磨液利用多晶金刚石良好的韧性,特殊配方分散性好,具有良好的润滑性能;具有较好清洗性能,在研磨抛光过程中能够保持高磨削力的同时不易产生划伤,严格的质量控制,确保产品质量的一致性和稳定性。
定制化配方:可根据客户需求进行定制。
光洁度:60-40或40-20 粗糙度:小于1um
可供规格:
单 位 | 粒 度 | 介 质 | ||||
微米(um) | 0.5 | 1 | 2 | 3 | 4 | 水性/中性/油性 |
5 | 6 | 7 | 8 | 9 | ||
纳米(Nm) | 30 | 50 | 100 | 125 | 150 | 水性/中性/油性 |
200 | 250 | 300 | ||||
应用领域:
1、半导体、碳化硅、硅片、锗、砷化镓、磷化铟、氮化镓等半导体材料研磨抛光;
2、红外晶体、硒化锌晶体研磨抛光、硒化锌研磨抛光,激光晶体研磨抛光、光学晶体研磨抛光、研磨速率高,划伤小,表面光洁度高;
注意事项:
1、请将液体摇晃均匀或用超声波超20分钟后使用效果更佳;
2、储存方式:密封保存阴凉干燥处,避免阳光照射及防止结冰,沉淀属于正常现象;
3、产品保质期:6个月;
4、可根据客户工艺要求进行定制,提供不同粒度、介质及技术支持;
5、包装规格:500ml/瓶,5L/桶(可根据客户需求)。

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