碳化硅衬底抛光液

碳化硅抛光液：

　　主要由高纯度的胶态氧化硅微粒所组成，可避免加工元件产生刮伤的现象，特别适合用于砷化镓、锗片、磷化铟、氮化镓、碳化硅、单晶硅、多晶硅、铌酸锂、碳酸锂、硫系红外玻璃珠中抛或精抛。

定制化配方：抛光液产品根据客户特殊需求特制生产单价另计。

我司抛光液去除率可达到2-6um/小时，具体根据客户实际工艺和技术而确定。

抛光后表面粗糙度Ra<0.2nm

产品详情：

应用范围：

1、半导体、碳化硅、硅片、锗、砷化镓、磷化铟、氮化镓等半导体材料研磨抛光；

2、红外晶体、硒化锌晶体研磨抛光、硒化锌研磨抛光，激光晶体研磨抛光、光学晶体研磨抛光、研磨速率高，划伤小，表面光洁度高；

3、蓝宝石衬底研磨抛光、LED衬底研磨抛光、蓝宝石窗口片研磨抛光、手机摄像头研磨抛光、手表表盘研磨抛光，手机玻璃面板研磨抛光；

4、玻璃抛光、金属研磨、铝合金研磨、不锈钢研磨、金刚石工具、模具钢研磨抛光、陶瓷等研磨及抛光。

常规包装：25KG/桶；

特殊包装：25KG/箱、5KG/桶、500ML/瓶、1吨/罐；

铕存方式：存放温度为5℃-35℃,常规条件25℃,避免阳光照射

保质期限：弱碱性抛光液保质期为一年

市释比例：建议稀释比例1:1-1:5.需用去离子水或蒸馏水，原液使用效果更佳。